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QFLS多維應(yīng)用:匯集牛津、青科大等團(tuán)隊(duì)研究成果

更新時(shí)間:2025-11-11      點(diǎn)擊次數(shù):109

QFLS在太陽(yáng)能光伏研究中的應(yīng)用與價(jià)值

在太陽(yáng)能光伏材料研究中,準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)分裂(QFLS)已成為解析器件物理與優(yōu)化性能的關(guān)鍵指標(biāo)。它量化光生載流子的化學(xué)勢(shì)能差異,直接揭示材料內(nèi)部的輻射與非輻射復(fù)合損失。這些損失決定了太陽(yáng)能電池開路電壓(VOC)的極限。

QFLS的核心價(jià)值:量化能量損失與識(shí)別根源

理想情況下,QFLS數(shù)值應(yīng)該與器件的外部VOC相等。但實(shí)際太陽(yáng)能電池中,接觸點(diǎn)、傳輸層以及材料缺陷導(dǎo)致電化學(xué)勢(shì)損失,使得實(shí)際VOC低于理論QFLS。這種QFLSVOC的不匹配,就是電壓損失的來(lái)源。

QFLS測(cè)量直接量化輻射與非輻射復(fù)合損失,特別是非輻射復(fù)合會(huì)導(dǎo)致QFLS偏離其輻射極限值。這為識(shí)別電壓損失根源提供依據(jù)——究竟是材料本身的體內(nèi)復(fù)合,還是界面問(wèn)題。

具體案例分析

錫鉛鈣鈦礦研究牛津大學(xué)Henry J. Snaith教授和河南大學(xué)李萌教授隊(duì)在添加半胱胺酸鹽酸鹽(CysHCl)的研究中[1],通過(guò)QFLS mapping(3e)發(fā)現(xiàn),添加CysHCl后錫鉛鈣鈦礦薄膜的QFLS值提升,且空間分布更均勻。結(jié)果表明CysHCl鈍化了材料缺陷,降低了非輻射復(fù)合。

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器件結(jié)構(gòu)優(yōu)化青島科技大學(xué)周忠敏教授和岳芳教授團(tuán)隊(duì)研究增強(qiáng)電場(chǎng)對(duì)QFLS赤字的影響[2]。圖1d展示不同半堆疊器件的PLQY測(cè)量QFLS數(shù)據(jù),證實(shí)優(yōu)化鈣鈦礦/FPD結(jié)構(gòu)能抑制QFLS赤字。該抑制機(jī)制通過(guò)增強(qiáng)載流子分離和提取效率實(shí)現(xiàn)。

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快速檢測(cè)技術(shù):光焱科技Enlitech QFLS-Maper檢測(cè)設(shè)備能在3秒內(nèi)獲得QFLS視覺(jué)圖,快速呈現(xiàn)材料整體準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)分布,直觀識(shí)別材料的優(yōu)劣與缺陷分布,加速材料篩選和優(yōu)化過(guò)程。

QFLS對(duì)器件優(yōu)化與材料選擇的指導(dǎo)作用

QFLS量化后,研究人員可以辨識(shí)電壓損失瓶頸,指導(dǎo)器件設(shè)計(jì)和材料選擇。它評(píng)估不同傳輸層材料的影響,以及薄膜在不同處理階段的表面性質(zhì)變化。

傳輸層優(yōu)化阿卜杜拉國(guó)王科技大學(xué)Stefaan De Wolf教授團(tuán)隊(duì)利用QFLS mapping(3d–f)QFLS分布直方圖(3g)[3],比較窄帶隙鈣鈦礦在不同ITO/SAM基板上的QFLS值。結(jié)果揭示了不同SAM對(duì)QFLS分布的影響,為空穴傳輸層優(yōu)化提供指導(dǎo)。

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復(fù)合機(jī)制分析Universit?t PotsdamDieter Neher教授團(tuán)隊(duì)指出[4],測(cè)量QFLS能有效評(píng)估鈍化分子和電荷傳輸層的電壓潛力。研究表明,即使VOC會(huì)因離子遷移或電極/輸送層界面復(fù)合而飽和,QFLS仍然忠實(shí)反映材料本身的復(fù)合機(jī)制,是評(píng)估材料固有品質(zhì)的關(guān)鍵指標(biāo)。

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光焱科技QFLS-Maper具備快速分層QFLS測(cè)試功能,能夠逐層分析各層材料(如HTL、電子傳輸層ETL)對(duì)整體組件性能的影響,幫助研究人員了解各層材料的優(yōu)劣,進(jìn)而在材料制備過(guò)程中實(shí)時(shí)掌握材料效果,大幅縮短研發(fā)時(shí)程。

QFLS在評(píng)估電荷載流子濃度與復(fù)合動(dòng)力學(xué)中的作用

QFLS直接反映電荷載流子濃度和復(fù)合速率。通過(guò)QFLS測(cè)量,可以判斷載流子壽命、摻雜濃度等因素對(duì)器件性能的影響。

摻雜濃度研究盧森堡大學(xué)Damilola Adeleye教授團(tuán)隊(duì)深入研究了摻雜濃度對(duì)QFLS的影響[5],并從QFLS和載流子壽命的測(cè)量中估算出摻雜濃度。文獻(xiàn)中的(3a)清楚展示了QFLS和載流子壽命隨Cu/In比以及不同生長(zhǎng)溫度的變化。研究強(qiáng)調(diào)了QFLS直接反映電荷載流子濃度和復(fù)合速率的能力,有助于研究人員深入理解載流子行為,進(jìn)而精確調(diào)控材料性能。

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光焱科技QFLS-Maper結(jié)合了PLQYEL-EQEin-situ PL等多模態(tài)功能,為載流子動(dòng)力學(xué)研究提供了全面的數(shù)據(jù)支持,幫助研究人員精確判斷載流子壽命、摻雜濃度等因素對(duì)器件性能的影響。

QFLS在發(fā)表研究成果中的幫助

在學(xué)術(shù)發(fā)表中,QFLS數(shù)據(jù)的運(yùn)用能顯著提升論文的說(shuō)服力和深度。它提供量化電壓損失的精確數(shù)據(jù),還能將實(shí)驗(yàn)結(jié)果與理論效率限制進(jìn)行對(duì)比,從而突出研究成果的潛力。

理論極限分析阿爾及利亞巴特納大學(xué)Hichem Bencherif團(tuán)隊(duì)通過(guò)公式將光致發(fā)光量子產(chǎn)率(PLQY)與QFLS關(guān)聯(lián)起來(lái)[6],指出QFLS可以定義理論效率極限。文獻(xiàn)中的(3e)展示了鈣鈦礦薄膜的QFLS結(jié)果及其分布直方圖,用以評(píng)估效率損失。這為報(bào)告器件接近理論極限的潛力提供了有力證據(jù),證明了2D/3D異質(zhì)結(jié)構(gòu)在提高效率方面的優(yōu)勢(shì)。

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老化機(jī)制研究德國(guó)愛(ài)爾朗根-紐倫堡大學(xué)Christoph J. Brabec教授團(tuán)隊(duì)利用QFLS(4a)評(píng)估不同層堆疊下非輻射損失的變化[7],發(fā)現(xiàn)體內(nèi)復(fù)合是全器件非輻射損失的主要來(lái)源。即使有穩(wěn)定的傳輸層,體內(nèi)缺陷的形成仍然是影響長(zhǎng)期穩(wěn)定性的主要因素。這種QFLS的定量分析為深入理解器件老化機(jī)制提供了關(guān)鍵數(shù)據(jù),對(duì)開發(fā)更穩(wěn)定的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池至關(guān)重要。

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提供普適性基準(zhǔn)與實(shí)驗(yàn)結(jié)果可比性

QFLS作為一個(gè)絕對(duì)的、有量綱的物理量,提供了一個(gè)普適性基準(zhǔn),使得來(lái)自不同組分和不同實(shí)驗(yàn)室的研究結(jié)果都能在同一基準(zhǔn)上進(jìn)行比較。這對(duì)學(xué)術(shù)交流和研究標(biāo)準(zhǔn)化具有重要意義。

多材料對(duì)比研究英國(guó)牛津大學(xué)Henry J. SnaithShuaifeng Hu教授團(tuán)隊(duì)通過(guò)QFLS mapping(3a)[8],評(píng)估了不同溶液制備的Sn-Pb鈣鈦礦薄膜的光電性能。研究顯示,PhA(磷酸)處理的薄膜有著更均勻的QFLS分布和更高的平均值,證明了添加劑對(duì)材料品質(zhì)的提升作用。這類QFLS數(shù)據(jù)的引入,使得不同材料和制程的優(yōu)劣能夠被客觀比較。

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光焱科技QFLS-Maper具備QFLS、PLQY、iVoc等多模態(tài)功能,提供了標(biāo)準(zhǔn)化且高精度的測(cè)量數(shù)據(jù),其PLQY靈敏度可達(dá)6個(gè)數(shù)量級(jí)(1E-4%),確保了測(cè)量準(zhǔn)確性和國(guó)際接受度,極大地有利于論文發(fā)表和跨實(shí)驗(yàn)室數(shù)據(jù)的比較。

預(yù)測(cè)器件性能與篩選材料

QFLS及其衍生的偽J-V (pseudo J-V) 曲線,能有效地預(yù)測(cè)器件潛力,在器件實(shí)際制造之前進(jìn)行材料篩選,大幅節(jié)省研發(fā)成本與時(shí)間。

性能預(yù)測(cè)技術(shù)荷蘭恩荷芬理工大學(xué)René A. J. Janssen教授團(tuán)隊(duì)QFLS光強(qiáng)度依賴數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為偽J-V曲線(4b),并從中得出偽填充因子(pFF(4d)和偽功率轉(zhuǎn)換效率(pPCE(4e)[9]。

Kessels等學(xué)者通過(guò)實(shí)驗(yàn),精準(zhǔn)測(cè)量了鈣鈦礦薄膜在不同GlyHCl濃度下的準(zhǔn)費(fèi)米能階分裂(QFLS)值。他們將光強(qiáng)度依賴的QFLS數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為偽J-V曲線,這種轉(zhuǎn)換通過(guò)利用光電流密度與光強(qiáng)度的正比關(guān)系,并將QFLS作為電壓來(lái)實(shí)現(xiàn)。

從這些偽J-V曲線中,研究團(tuán)隊(duì)推導(dǎo)出偽填充因子(pFF)和偽功率轉(zhuǎn)換效率(pPCE)。這些衍生參數(shù)雖然不直接代表最終器件的實(shí)際J-V性能(因?yàn)楹雎粤穗姾蓚鬏敁p失),但能有效排除器件制備中的傳輸損失,更純粹地反映鈣鈦礦材料本身的內(nèi)在光電品質(zhì)與潛力。

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GlyHCl添加劑效應(yīng)研究:通過(guò)QFLS及其衍生參數(shù)的深入分析,Kessels等學(xué)者的研究清晰揭示了GlyHCl對(duì)鉛錫基鈣鈦礦材料的積極作用:

光焱科技QFLS-Maper能在最快2分鐘內(nèi)預(yù)測(cè)材料的偽J-V曲線,從理論層面評(píng)估材料的效率潛力,大大縮短實(shí)驗(yàn)周期,并且能將預(yù)測(cè)結(jié)果可視化呈現(xiàn),讓研究者能夠一目了然。

驗(yàn)證理論模型與模擬結(jié)果

實(shí)驗(yàn)測(cè)得的QFLS數(shù)據(jù),能夠?yàn)榈谝恍栽碛?jì)算(DFT)和漂移擴(kuò)散(drift-diffusion)模擬等提供關(guān)鍵的實(shí)驗(yàn)依據(jù),確保理論模型的準(zhǔn)確性。

界面工程驗(yàn)證阿卜杜勒阿齊茲國(guó)王科技城學(xué)者Masaud Almalki等人在研究中明確指出[10]:「SCAPS模型與實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的成功校準(zhǔn),證明了表面復(fù)合速度在提高器件效率方面的關(guān)鍵作用。長(zhǎng)鏈烷基銨鹽的使用表明表面復(fù)合速度降低,進(jìn)而減輕了VOC-QFLS失配」。

他們系統(tǒng)性地引入不同鏈長(zhǎng)的烷基銨碘化物作為表面鈍化劑,利用能量帶圖解釋了QFLSVOC的關(guān)系,其模擬結(jié)果與實(shí)驗(yàn)觀察一致,即鈍化處理能有效抑制界面復(fù)合,提升QFLS(7a,b)

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器件建模驗(yàn)證美國(guó)First Solar研究團(tuán)隊(duì)Supporting Information中展示了E-Solver模擬器與SCAPS-1D模擬器在帶圖和QFLS/q–VOC差異方面的對(duì)比[11],結(jié)果高度一致,誤差極小(S1A,B和圖S2A,B)。這類對(duì)比證明了QFLS在驗(yàn)證數(shù)值模擬和理論計(jì)算準(zhǔn)確性方面的重要性,為半導(dǎo)體器件的設(shè)計(jì)提供了可靠的理論基礎(chǔ)。

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第一性原理計(jì)算韓國(guó)技術(shù)學(xué)院Yong-Hoon KimJuho Lee, Hyeonwoo Yeo等學(xué)者報(bào)導(dǎo)了從第一性原理計(jì)算中提取納米級(jí)結(jié)點(diǎn)的QFLS剖面圖[12],并探討其與有限偏壓下電荷傳輸?shù)年P(guān)聯(lián)性(4A,B)。藉由第一性原理計(jì)算QFLS,研究人員可以在實(shí)際合成或制造新材料和器件之前,預(yù)測(cè)其在不同偏壓和激發(fā)條件下的電學(xué)行為和電壓潛力。這縮短了研發(fā)周期,并能夠系統(tǒng)性地探索材料設(shè)計(jì)空間。

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結(jié)論

QFLS及其mapping技術(shù)已成為太陽(yáng)能光伏研究的工具。它提供量化能量損失、指導(dǎo)材料選擇和優(yōu)化器件設(shè)計(jì)的精確數(shù)據(jù),更在學(xué)術(shù)發(fā)表中扮演著關(guān)鍵角色。通過(guò)QFLS數(shù)據(jù),研究人員能更深入地理解光伏材料的內(nèi)在物理機(jī)制,驗(yàn)證理論模型,并為開發(fā)更高效、更穩(wěn)定的太陽(yáng)能電池提供堅(jiān)實(shí)的科學(xué)依據(jù)。這項(xiàng)技術(shù)的持續(xù)發(fā)展與應(yīng)用,將持續(xù)推動(dòng)太陽(yáng)能光伏技術(shù)的進(jìn)步,為人類社會(huì)的可持續(xù)發(fā)展貢獻(xiàn)力量。



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